超級賽道突然全線爆發(fā)。

　　今日，A股半導體、光芯片和光模塊概念股集體走強，截至14:30，長光華芯、明微電子、東芯股份強勢錄得20%漲停，中際旭創(chuàng)（300308）大漲超13%，創(chuàng)歷史新高。有分析指出，全球AI領域近期利好催化不斷，國內外AI巨頭的資本開支規(guī)模持續(xù)超預期，全球AI產業(yè)持續(xù)景氣，AI相關市場規(guī)模有望保持高增長。

　　與此同時，國產光刻機領域也傳來重磅消息。上海芯上微裝科技股份有限公司25日官宣，公司自主研發(fā)的首臺350nm步進光刻機（AST6200）正式完成出廠調試與驗收，啟程發(fā)往客戶現場，這標志著我國在高端半導體光刻設備領域再次實現關鍵突破。

　　全線爆發(fā)

　　11月26日，A股開盤后，半導體、光芯片和光模塊概念股全線走強，截至14:30，長光華芯、明微電子、東芯股份錄得20%漲停，中際旭創(chuàng)、英集芯、賽微電子（300456）、乾照光電（300102）大漲超10%，博通集成（603068）、國晟科技（603778）斬獲10%漲停，新易盛（300502）、微導納米、劍橋科技（603083）、燕東微、燦芯股份等個股跟漲。

　　消息面上，11月25日晚間，阿里巴巴發(fā)布2026財年第二季度財報，云收入同比增長34%，AI相關產品收入連續(xù)9個季度實現三位數同比增長；本季度資本開支為315億元，過去四個季度在AI+云基礎設施的資本開支約1200億元。

　　海外來看，Meta正與谷歌就2027年在其數據中心使用價值數十億美元TPU芯片進行談判，同時計劃明年從谷歌云租用芯片。另外，谷歌正式推出新一代大模型Gemini3，該模型以37.5%的HumanitysLastExam得分和31.1%的ARC-AGI-2得分對包括GPT在內的其他AI大模型實現了多維度斷層式領先。

　　谷歌AI基礎設施負責人Amin Vahdat日前在全體大會中表示，公司必須每6個月將AI算力翻倍，并在未來4到5年內額外實現1000倍的增長，以應對持續(xù)上升的AI服務需求。

　　天風證券（601162）指出，AI算力需求持續(xù)釋放，推動光模塊、交換機等基礎設施升級，其中1.6T光模塊有望在第四季度隨GB300平臺放量而加速滲透，硅光技術憑借高集成度與成本優(yōu)勢，預計其在光模塊市場中的份額將從2023年的27%提升至2030年的59%。同時，數據中心交換機市場保持強勁增長，2024年中國AIGC相關200G/400G設備收入同比增長132%，端口出貨量同比增幅高達166.5%。

　　展望后市，國金證券表示，當前AI趨勢明確，AI軍備競賽持續(xù)，國內外云廠商資本開支高增，2025年第二季度單季，僅北美四大互聯網廠商資本開支總計便達958億美元，同比增長64%，全球AI產業(yè)持續(xù)景氣。通信板塊作為“賣鏟子”的算力行業(yè)，市場規(guī)模有望持續(xù)增長。

　　重大突破

　　與此同時，上海芯上微裝科技股份有限公司（以下簡稱“芯上微裝”）再傳捷報。該公司官微25日發(fā)布消息稱，芯上微裝自主研發(fā)的首臺350nm步進光刻機（AST6200）正式完成出廠調試與驗收，啟程發(fā)往客戶現場，標志著我國在高端半導體光刻設備領域再次實現關鍵突破。

　　AST6200光刻機是芯上微裝基于多年光學系統設計、精密運動控制與半導體工藝理解積淀，傾力打造的高性能、高可靠性、全自主可控的步進式光刻設備，專為功率、射頻、光電子及Micro LED等先進制造場景量身定制。

　　據其官微介紹，AST6200光刻機具備以下幾點核心性能亮點：

　　1.高分辨率成像滿足先進工藝需求，搭載大數值孔徑投影物鏡，結合多種照明模式與可變光瞳技術，實現350nm高分辨率，滿足當前主流化合物半導體芯片的光刻工藝要求。

　　2.高精度套刻配置高精度對準系統，實現正面套刻80nm，背面套刻500nm，確保多層圖形精準套刻，提升器件良率。

　　3.高產率設計，顯著降低擁有成本（COO）。強工藝適應性，兼容多材質、多形態(tài)基底，支持Si、SiC、InP、GaAs、藍寶石等多種材質基片；兼容平邊、雙平邊、Notch等多種基片類型；創(chuàng)新調焦調平系統，采用多光斑、大角度入射設計，可精準測量透明、半透明、不透明及大臺階基底；支持背面對準模塊，滿足鍵合片等復雜制程的背面對準需求。

　　4.100%軟件自主可控打造全棧國產生態(tài)，AST6200搭載芯上微裝自主研發(fā)的全棧式軟件控制系統，從底層驅動到上層工藝管理，實現完全自主主權。系統具備強大的工藝擴展性與遠程運維能力，持續(xù)賦能設備生命周期，助力客戶實現智能化產線升級。

　　據悉，芯上微裝致力于為全球客戶提供高性能、高可靠性、國產化替代的核心光刻解決方案。公司擁有一支由光學、機械、控制、軟件與半導體工藝專家組成的頂尖研發(fā)團隊，掌握多項核心專利技術，在投影物鏡、精密運動臺、曝光系統等領域實現關鍵技術自主突破。